清和光学製作所

第40回 ネプコンジャパン出展のお知らせ

2026年1月21日(水)~23日(金) 東京ビッグサイトにて開催されます『第39回ネプコン ジャパン』へ出展いたします。 

 半導体向けフォトリソ関連装置、検査関連装置、検査用光学エンジンなど
多数取り揃えておりますので、ご多忙と存じますが、是非ご来場ください。
「ネプコン ジャパン」とは・・・
◆アジア最大級!エレクトロニクス開発・実装展◆
エレクトロニクスの多機能化・高性能化を支える世界最先端の電子部品・材料やマウンター・検査装置が出展される

展示会です。エレクトロニクス、半導体・センサ、電子部品、自動車・電装品メーカーはぜひご来場ください!

出展概要

展示会名称

 第40回インターネプコン ジャパン

開催期間

 2026年1月21日(水)~23日(金)  10:00~17:00
展示会場   東京ビックサイト
ブースNo.  東5ホール E18-8
公式サイト https://www.nepconjapan.jp/tokyo/ja-jp.html
参加登録方法  本ページ末尾の来場者登録ページより事前登録をお願いします。

出展製品


高速撮像 卓上基板レビュー装置 KRV Series

 

対象ワーク:PCB(プリント基板)
※ウェハ、ガラス基板用にもカスタマイズ可能
搭載サイズ:最大□180mm×80mm (t=5.0mm) 
アライメント:基板端面(エッジアライメント)搭載
撮像能力:2450万画素カメラ対応超高解像度レンズ搭載 

 

基板(プリント基板)をステージ上に手載せし、自動でアライメント後にステージ移動・照明切り替えを繰り返して、撮像・ソフト処理を行い画像保存を行います。3種類の照明を搭載している為、あらゆる条件下での撮像が可能です。


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UVレーザーマーカー 

SLM Series

・波長355nm
・レーザー出力を5Wと10W、印字方式を2Dと3Dの

 計4種類のラインナップ!
・レーザ発振部と電源制御系を分割化することにより設置個所 

 の省スペース化を実現
・防塵防水基準 IP64
【マーキング用途】
・ガラス、クリスタル    ・セラミック     ・一部金属
・各種プラスチック(PLA、PVC、PET、PE、PP、PS、

 PTFE、PMMA)
【加工用途】
・被覆剥離   ・FPCケーブル皮膜処理          ・フィルム加工


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<実機展示>半導体内部観察顕微鏡

赤外光の透過・反射特性を利用してシリコンウェハやチップ、MEMS、CSPなど半導体デバイス内部を観察できる顕微鏡です。チップ内部のメタル配線、 
ダイボンディングなどの観察に適しています。

<特徴>
・1ピクセル5μm、1.3MPのSONY製IMX990を搭載したSWIRカメラを搭載し、近赤外画像でありながら、
    これまでにない高解像画像の取得を可能にしました。
・SWIRカメラで感度の高い近赤外1100-1700nm域専用に独自設計した結像鏡筒とPEIR対物レンズシリーズにより、厚ウェハ、高濃度ウェハでも高コントラストな画像が取得できます。
・ハイパワー近赤外ハロゲン光源をセットアップ、対物レンズ100x使用時も明るい画像が得られます 。
・8インチウェハー搭載ステージを備え、除振台、ウェハーローダーなどのオプションもご提案可能です。

 

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パネル展示

◆ ウェハーレビュー装置(オプション:白色干渉、レーザー共焦点、AFM) 
◆ ウェハーパターン表裏ズレ検査装置 
◆ FOUP/FOSB寸法検査装置
◆マニュアルアライナー(TopSideAlignment&BackSideAlignment)
◆レーザー溶着技術(特許取得済)

光学機器実機展示

◆レーザーオートフォーカス光学システム
◆画像オートフォーカス(近赤外観察に最適)
◆近赤外対物レンズ
◆ミロー式対物レンズ
◆3穴対物スライダー


様々な用途に対応した光学エンジンのパーツを取り揃えておりますので

お気軽にご相談ください。

 


お問い合わせ

製品についてのご質問・お問合せも本フォームにて受け付けておりますので、お気軽にご連絡ください。
来場者登録は本フォーム下部のリンクよりお願いいたします。

フォームが表示されるまでしばらくお待ち下さい。

恐れ入りますが、しばらくお待ちいただいてもフォームが表示されない場合は、こちらまでお問い合わせください。


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